Újabb tesztüzemet épít az Intel

Hillsboro-ban az Intelnek már több létesítménye is van, közöttük a Fab 20 tömegtermelést végző chipüzem, valamint a D1C tesztüzem is, amely nemrég készült el 250 millió dolláros beruházásból. A D1C a 130 nm-es gyártási eljárást bővíti ki az új, 300 mm-es szilíciumostya alapanyagok alkalmazásával. Az Intel terveiben szereplő második tesztüzem, vagyis a D1D már a 100 nm-es csíkszélességű gyártási eljárást fejlesztené. Ha a tervet nem utasítják vissza a hatóságok, a D1D tesztüzem 2003-ban készülhet el, amennyiben az Intel programja időközben nem változik.