Ha vizet folyatnak a szilícium nyerslapka felületén, miközben az áramkör vonalait vésik rá, a litográfiai eszközök jelenlegi nemzedékével is el lehet jutni a 45 nanométeres szintre a víz fénytörő képességeinek köszönhetően, mondja Bruce Smith, a mérnöki mikroelektronika professzora, a RIT doktori képzésért felelős dékánhelyettese.
A jelenlegi litográfiás eszközök 193 nanométeres hullámhosszú lézerfénnyel készítik a 90 nanométeres lapkákat, mint amilyen az Intel Prescott Pentium 4 processzora és az IBM PowerPC 970FX processzora. A mikroszkópok több mint 100 évig használták a folyadékok fénytörő tulajdonságait a minták felbontásának feljavításához. A biológiai laborokban olajos folyadékokat használtak erre a célra, és sok kutató azt jósolta, hogy bizonyos folyadékokat fel lehet majd használni az immerziós (folyadékba merítéses) litográfiához is, magyarázza Smith.
A litográfia lényegében fordított mikroszkóp, amennyiben egy nagy képet akar zsugorítani, ám a félvezetőgyártás tisztasági követelménye eleve sok folyadék használatát kizárta. A víz ideális folyadéknak bizonyult, mivel nem lép reakcióba a félvezetőgyártáshoz használ anyagokkal és folyadékokkal, és mert fénytörő képességei ugyanazokon a hullámhosszokon tetőznek, melyeket a metsző eszközök is használnak. Sok kutató úgy gondolta, hogy kisebb hullámhosszú eszközökre lesz szükség a 65 nanométeres és az annál kisebb processzornemzedékhez.
Az új eszközök kifejlesztése drága és időigényes folyamat, mert gondoskodni kell arról, hogy az új eszköz működjön a meglévő anyagokkal, és kiküszöböljenek minden problémát, ami esetleg adódik. A lapkagyártóknak most csak egy olyan új eszközbe kell invesztálniuk, amely állandó sugárban biztosítja a vizet, és egy olyan víztisztító rendszerbe, amely biztosítja, hogy a víz ne szennyezze be a nyerslapkát, viszont használni tudják ugyanazokat a lézereket és optikai berendezéseket, mint most.
